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    扩散炉 扩散炉炉体

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Furnace-管式炉

    Product brand

    CL-扩散炉

    In stock:

    99

    Place of origin:

    China-山东省

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    85000.00
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    consumer hotline:00864001027270

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    Concerned Products

    Brand:CL-扩散炉

    model:

    Own series:Processing Equipment-Furnace-管式炉

     
    卧式扩散炉--扩散炉

    扩散炉--高温扩散炉,卧式扩散炉,晨立简单介绍:

     

    扩散炉--高温扩散炉,卧式扩散炉,晨立

    设备用途:用于大规模集成电路、电力电子、光    电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。

    设备特点:单元组合方式。根据工艺的不同,可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。    
    主要技术指标:
    ★ 炉管数:1~4管
    ★ 配工艺管口径:Φ90~360 mm (3~12英寸)
    ★ 恒温区长度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃)  760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃)
    ★ 单点稳定性: ±1.0℃/24h (300~800℃)    ±0.5℃/24h (800~1280℃)
    ★ 气源路数:    ≤7路,可配恒温源瓶、氢氧合成点火器
    ★ 气体控制:    浮子/质量流量计
    ★ 悬臂舟参数: 速度:    20~1000 mm/min    最大行程:2000 mm    定位精度:±1 mm    最大载荷:17 Kg
    ★ 超净工作台: 净化等级:100级(万级厂房)
    噪音:    ≤62dB(A)
    振动:    ≤3μm
    晨立最新扩散炉设备新鲜出炉,技术和质量已达国际水平,受到半导体设备制造企业和半导体行业高度关注.可完全替代国外同规格高端产品满足不同工艺的要求.

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