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    等离子清洗机、刻蚀机、去胶机、活化机

    Applied to the semiconductor industry:

    Cleanning Equipment-Plasma Cleaning-真空等离子清洗机

    Product brand

    戈德尔guarder

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-山东省

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    1000.00
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    consumer hotline:00864001027270

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    ¥10000.00

    Concerned Products

    Brand:戈德尔guarder

    model:

    Own series:Cleanning Equipment-Plasma Cleaning-真空等离子清洗机

      产品特点 
       WB240等离子体清洗机采用专利高密度微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理,微波等离子体清洗具有高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。   
    微波等离子清洗机主要用途: 
      ·等离子体表面改性
      ·有机物表面等离子体清洁
      ·邦定强度增强
      ·等离子体刻蚀应用
      ·等离子体灰化应用
      ·增强或减弱浸润性
      ·其它等离子体系统应用
    >> 技术参数
     ◆ 外形尺寸(不包括报警灯)
        1000(W)×800(D)×1750(H)mm
     ◆ 仓体结构(石英,约20升)
        Φ 245mm ×400Lmm  
     ◆ 等离子发生器(德国)
        频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作
     ◆ 控制系统
        触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件,性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
     ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
        英国爱德华斡旋式干泵 GV40
        美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器      
        台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管 
     ◆ 充气系统
        美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)
        美国世伟洛克气体管路及接口组件,德国双级减压阀

        日本SMC及CKD高真空气阀组件

     

    >> 相关应用    

      - 晶圆光刻胶清洗  

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