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    PVA TePla 微波等离子体去胶机

    Applied to the semiconductor industry:

    Cleanning Equipment-Plasma Cleaning-真空等离子清洗机

    Product brand

    PVA TePla

    Delivery period:

    90天Day

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    National

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:PVA TePla

    model:

    Own series:Cleanning Equipment-Plasma Cleaning-真空等离子清洗机

    PVA TePla微波等离子体去胶机

    IoN Wave 10 等离子体去胶机是PVA TePla 在微波等离子体处理工艺中的最新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适用、性能先进。其使用最新的、性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。其工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。占地面积小,安装维护简单。依靠微波等离子体技术,该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时,最大程度较低了产品暴露在静电中风险。


    典型应用:

    去除光刻胶 Photo-resist stripping

    去除残胶 Wafer descum

    晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaning

    su-8灰化 Su-8 ashing

    氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.

    刻蚀钝化层 Etching of passivation layers

    逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis

    微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysision_wave_10_stripe11

    过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes

     


    规格参数:

    2.45GHz风冷微波电源(0~600w可调),

    石英或陶瓷腔体,

    防腐蚀不锈钢MFC,

    多至6路气体,

    兼容8英寸及以下晶圆

    PC 工控机控制,运行数据自动存储;分级控制权限,防止操作

    图形化触控屏界面,运行状态图形化实时显示。

    自动/手动随意切换

    可选配法拉第桶

    可选配温控系统

    可选配压力控制系统

    外形尺寸:775×749×781 mm

     


    认证:

    CE 认证

    EN 61010

    EN 61326

    Semi E95

    ISO 9001

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    Question:
     

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