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PICOPLASMA™源系统既可以安装在现有的PICOSUNTM ALD反应器上,也可以将整个PEALD组装为一个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统,PICOPLASMA™集成在PICOPLATFORM™集群系统中后可实现自动化操作。
PICOPLASMA™ 远程等离子体系统技术参数
• 等离子体发生器和电源集成在一个紧凑的系统中
• 通过传送腔体与反应腔相连
• 商用射频等离子体发生器:功率在100 – 3000 W之间可调,频率在 1.7 – 3 MHz之间可调
• 发生器平均无故障时间: > 100 000 h
• 等离子路径中有保护气流(等离子体没有反向扩散)
• 等离子体点火时腔室内没有压强波动(不会产生颗粒)
• 适于生长金属及氮化物(不会产生短路)
• 若想在同一次沉积过程中进行等离子及热ALD沉积循环交替使用,不用进行任何硬件更换
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