Website Homepage

CN|EN

Current Position: Home » Equipment » Processing Equipment » PVD » 等离子沉积设备 »等离子体增强原子层沉积(PEALD)系统
    Shipping 关注:146

    等离子体增强原子层沉积(PEALD)系统

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备

    Product brand

    Picosun

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    National

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:Picosun

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备

     Picousn公司新型PICOPLASMA™等离子体增强原子层沉积(PEALD)系统是基于先进的自由离子远程等离子源设计的,其性能已经得到世界范围内的诸多顶级研究团队的肯定。多种激发源(如氧、氢和氮等)配置能够最大化拓展ALD的工艺范围,尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。由于远程等离子源所产生的等离子体束流中离子的含量低,因此即使是最敏感的衬底,也不会出现等离子损伤,而等离子束流中含有高浓度的活性粒子,保证很快的生长速度。

    PICOPLASMA™源系统既可以安装在现有的PICOSUNTM ALD反应器上,也可以将整个PEALD组装为一个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统,PICOPLASMA™集成在PICOPLATFORM™集群系统中后可实现自动化操作。

    PICOPLASMA™ 远程等离子体系统技术参数

    • 等离子体发生器和电源集成在一个紧凑的系统中
    • 通过传送腔体与反应腔相连
    • 商用射频等离子体发生器:功率在100 – 3000 W之间可调,频率在 1.7 – 3 MHz之间可调
    • 发生器平均无故障时间: > 100 000 h
    • 等离子路径中有保护气流(等离子体没有反向扩散)
    • 等离子体点火时腔室内没有压强波动(不会产生颗粒)
    • 适于生长金属及氮化物(不会产生短路)
    • 若想在同一次沉积过程中进行等离子及热ALD沉积循环交替使用,不用进行任何硬件更换


    advisory

    If you have any questions before purchasing, please contact us.

    Question:
     
    Ask

    基片的尺寸范围多大?加工速度多高?

    sjfh  2017-08-14

      您可以联系我们的专业工程师,为您解答:

    北方区工程师:010-64415767

    南方区工程师:021-56664986

    2017-08-23

    Related similar products in semiconductor industry:

    Service Hotline

    4001027270

    Function and characteristics

    Prices and offers

    WeChat public number