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    磁控溅射卷绕镀膜机

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备

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    Germany

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    Own series:Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备


    磁控溅射卷绕镀膜机
     
    磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射(直流、中频、射频)的方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上,进行单层或多层镀膜。

    磁控溅射卷绕镀膜设备与蒸发卷绕镀膜设备相比,生产效率较低、设备成本高,这是由镀膜原理所决定的。但磁控溅射具有镀膜温度低、可任意位置安放多个靶连续镀多层膜、镀膜材料适应范围宽、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点。

    可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜,如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5等;金属和合金膜如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等;用ITO、AZO等陶瓷靶可镀透明导电膜;用多层光学膜结构镀AR减反膜、HR高反膜、AR+ITO高透导电膜、低辐射Low-E和阳光控制膜等。主要用于汽车、火车、轮船等前挡及玻璃门窗的贴膜,建筑门窗及幕墙贴膜,防静电和电磁贴膜,装饰贴膜和包装膜、太阳能暖房贴膜,电加热器膜,防霜雾透明膜,FPD平板显示用透明电极膜,在金属带上镀光学多层膜做薄膜太阳能电池等。如ITO透明导电膜可以作为冷发光材料,在棉布表面镀上SiO2可制成防电磁辐射的防护服,镀Ni的海绵绕制后可做镍氢电池,镀上多种材料的基材可做电子书、柔性显示器件等。

    磁控溅射卷绕镀膜技术由于覆盖领域广泛,虽然比蒸发卷绕镀膜技术起步晚,但发展极为迅速,在未来的高科技领域和环保节能领域将大有可为。
     

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