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    ICP (Inductively Coupled Plasma Etching)

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Etching-高密度等离子体刻蚀机

    Product brand

    oxford

    Specification model:

    PlasmaPro Estrelas100

    In stock:

    100

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    consumer hotline:00864001027270

    Brand:oxford

    model:PlasmaPro Estrelas100

    Own series:Processing Equipment-Etching-高密度等离子体刻蚀机

    等离子刻蚀设备 深硅刻蚀ICP PlasmaPro Estrelas100

    牛津仪器专为深硅刻蚀工艺打造的专用设备,可满足直径
    75mm-200mm晶圆尺寸需求

    精湛的精密刻蚀工艺 ,超过百家企业,科研单位,选择我们量身定制设备,欢迎来电咨询:010-57168280 赵小姐

    深硅刻蚀ICP PlasmaPro Estrelas100的工艺
    深硅蚀刻技术为工业提供了领先的工艺,保持与研发市场协调发展,该系统的灵活性达到最大限度。微纳米结构作为硬件技术与Bosch™,还有低温蚀刻技术可在同一腔体内运行。从光滑侧壁刻蚀到高速率的刻蚀工艺,PlasmaPro Estrelas100的设计保证了MEMS的应用泛围广,无需改变腔内硬件。











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