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LICP-200型全自动ICP刻蚀机
系统简介
鲁汶仪器生产的LICP-200型全自动ICP刻蚀机是一台实验室用高性能刻蚀机。
具有刻蚀速率高、刻蚀精度高、刻蚀选择比高等一系列优点，已成为目前高精度微细加工必不可少的先进工具。广泛应用于微电子、光电子、半导体、微机械、纳米器件、石墨烯等领域的微细加工。
它可通F基气体刻蚀Si、SiO2、SiN、Poly-Si、SiC、Ge、W、Mo、Ta、钛酸铋、铌酸锂、石英等。
除了可进行常规图形的刻蚀加工之外，还具有刻蚀纳米图形的能力。
刻蚀工艺全自动，软件中包含刻蚀材料的推荐工艺菜单，操作简单，重复性好，经久耐用。
刻蚀性能
1、最细刻蚀线宽≤100nm。
2、刻蚀均匀性:≤±5%。
3、样品大小：≤8寸。
标准机型主要配置
1、阳极氧化铝腔室；
2、分子泵、机械泵高真空机组；
3、激励射频电源带自动匹配器；
4、偏压射频电源带自动匹配器；
5、数字真空计和压力开关；
6、气路系统、数字流量计，可定制增减；
7、调压阀、高阀、低阀；
8、带触摸屏集成工控计算机，有严格的检漏、互锁、报警等安全措施；
9、具有He背冷系统，可冷却加工基片。
关于我们
江苏鲁汶仪器有限公司是由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省邳州市，在比利时设有研发中心及销售部，在北京和俄罗斯设有销售部。公司秉承“以创新为主导，客户信赖为第一”的宗旨，倡导精益求精的工匠精神，为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。
公司旨在研发与生产大学实验室、研究所及半导体生产线所需仪器设备，瞄准定制化市场。主要产品有薄膜材料纳米孔径分析仪、高端平台刻蚀机、等离子体刻蚀系列设备、化学气相沉积系列设备、溅射薄膜镀膜系列设备、原子层镀膜系列设备、湿法清洗刻蚀系列设备等，公司拥有自主专利技术，核心产品技术国际领先。
公司坚持以人为本，技术团队囊括诺贝尔奖获得者、两名“千人计划”专家，多名国内外半导体领域知名教授及高校科研院所的年轻技术骨干。国际一流的人才团队为公司保持技术领先、实现创新驱动打下了坚实的基础。
公司致力于成为全球一流的半导体设备供应商，愿与客户、供应商、业界同仁及投资者共同开拓和缔造半导体设备领域的广阔未来！
