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等离子增强型化学沉积设备(PECVD) 北京中科信电子装备有限公司
PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
主要特点：
1.采用卧式热壁型模式，有效提升产能；
2.采用高分辨率热偶及防干扰技术，确保射频放电时温度场稳定；
3.完善的射频自动匹配系统，及全自动工艺参数控制系统；
4.高可靠的真空系统，独特的反应管位移控制装置，确保真空系统长期使用稳定；
5.可选的4管配置及自动上下料机械手配置，充分考虑客户的个性化需求；
6.可选的背靠背8管PECVD，减少占地，节约厂房空间及运行成本。
主要技术参数
