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微波PECVD产品特点：
- 不锈钢或铝制腔体
- 极限真空可达10-7Torr
- RF淋浴头，HCD或微波等离子源可选
- 高达12"(300mm)直径的样品台
- RF射频偏压样品台
- 水冷样品台
- 可加热到800 °C样品台
- 加热的气体管路
- 加热的液体传送单元
- 抗腐蚀的涡轮分子泵组
- 1路载体气体以及3路反应气体，带MFC
- 最大可支持8路MFC，带排放箱及气体阀组
- 预真空锁及自动上下载腔门
- 气动控制阀
- 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
- 菜单驱动，4级密码访问保护
- 完整的安全联锁
微波PECVD产品应用：
- 等离子诱导表面改性
- 等离子清洗
- 等离子聚合
- SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜
- CNT选择性生长
微波PECVD设备型号：
- NPE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立系统
- NPE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立系统
- NPE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统
- NRP-4000：RIE/PECVD双系统
- NSP-4000：溅射/PECVD双系统
