Website Homepage

CN|EN

Current Position: Home » Equipment » Processing Equipment » Lithography » 双面光刻机 »EVG 光刻机
    Shipping 关注:613

    EVG 光刻机

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Lithography-双面光刻机

    Product brand

    EVG

    In stock:

    5

    Place of origin:

    China-上海市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:EVG

    model:

    Own series:Processing Equipment-Lithography-双面光刻机

            1985年,EVG研制出世界上首台综合了高精度背面光学对位的光学双面对位系统。这种高精度的背面对位技术是许多运用,包括微系统和微机电技术,得以实现和发展的关键。基于机械的灵活性与组件式结构,EVG620系列光刻机能满足所有最严格的单面和双面精确对准的硅片光刻要求。 EVG光刻机可根据用户的不同要求,具有手动操作,研究及发展和大批量全自动生产应用等不同的机型。今天,EVG提供世界上最先进的对位系统。EVG620系列可提供最好的精度,适应性,易用性和模块升级能力。EVG620系列可实现最大150毫米的不同尺寸、形状及厚度的材料的对准。EVG还有EVG610, EVG6200, IQ-Aligner等多种光刻机型号,可应对客户各种不同的需求。

    advisory

    If you have any questions before purchasing, please contact us.

    Question:
     
    Ask

    这个对准误差会不会超过0.5微米??

    gookjll  2017-08-07

    Ask

    请问这个设备是双面对准的吗?对准精度多高??

    losaners2016  2017-08-17

    Related similar products in semiconductor industry:

    Service Hotline

    4001027270

    Function and characteristics

    Prices and offers

    WeChat public number