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JKG-2B型 双面光刻机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城
本机是专为生产中、大规模集成电路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而设计制造的。它可以将两块掩模上的各种图案经紫外光束的曝光，从上下两面分别或同时转印至硅片或其它基片的正反面上，再经其它工序的处理，从而获得完整的微电子器件。
本机为适应各电子器件厂对JKG-2A型光刻机的使用习惯，故保留了JKG-2A型光刻机部分操作程序，尤其是为了提高光刻的质量，本机的结构、精度以及性能等方面作了大幅度的改进。为减少使用者的疲劳，显微镜采用双目观察和平视场物镜，成像清晰，景深较长。由于本机具有上述种种特点，是成批生产微电子器件较为适合的光刻设备。
主要技术参数
| 1、适用的掩模尺寸： | 100*100*2~3mm或75*75*2~3mm |
| 2、适用的基片幅面尺寸： | ф50或ф75mm |
| 3、曝光分辨率： | 3~4чm |
| 4、掩模与硅片之间的相对位移范围： | X、Y各≥±2.5mm； θ（旋转）≥±5° |
| 5、工作台综合移动范围： | X±37.5mm、Y±20mm |
| 6、曝光系统： | GCQ200W超高压球形汞灯，曝光波长：300~436nm |
| 7、曝光系统能量不低于： | 波长407nm； 7mW/cm2 |
| 8、曝光系统的照明不均匀性在ф75mm范围内 | ±5% |
| 9、显微镜的照明波长 | ≈545nm |
| 10、曝光时间控制范围： | 0.01秒~99.99分 |
| 11、双目显微镜的调焦范围： | 13mm |
| 12、双目显微镜的放大倍率： | a.成对目镜，共两种：10*、16*； b.平视场物镜，共两种：6*、9*； c.总合成放大倍率：60*~144* |
| 13、真空接触压力： | ≥0.7kgf |
| 14、供电电源： | a.频率：50HZ（Z频）；b.额定输入电压：190V~230V；c.功率消耗：≤300VA |
| 15、外形尺寸： | 800*1440*650mm |
| 16、重量： | ≈80kg |
