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一、 设备的主要用途
本设备主要适用于电力电子器件、机车电子器件、传感器件、石英晶体振荡器、混合电器、双向可控硅、对地放电二极管及功率半导体器件等基片正反两面需要进行对准（套刻）的曝光。
二． 主要技术指标：
（1）本机采用双面对准单面曝光方式。
（2）基片X、Y、θ对准工作台，X、Y移动：±5mm，θ转角≤±5°。
（3）基片与掩膜对准精度（包括与记忆图形的对准精度）≤0.001mm。
（4）板架来回翻转重复精度≤0.004mm。
（5）采用蝇眼曝光头，曝光面积：≤Φ100mm，光的不均匀性：≤±3%，光强可调，350W直流汞灯。
（6）适用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片，配有三种不同的承片台和相对应的板架。
（7）显微系统放大倍数：51～323倍（连续变倍）。
三．设备的主要特点：
（1）采用计算机、软件对版上记忆的图形（光刻标记）对基片进行曝光。
（2）独特的翻板机构，使上版、下版、放片、取片非常方便。
（3）版的记忆图形、片下平面需要对准图形在同一水平面上，排除下面二个卧式显微镜需要下移一个片厚而引起的误差。
（4）本设备具备多重功能，它既是双面曝光机，又是普通曝光机，还可当一台检查双面对准精度的检查仪。
成都鑫南光机械设备有限公司是一家专业从事四川真空泵,四川光刻机,四川氢气炉生产及销售批发工作的企业,咨询电话:13908187709,028-85730519,拥有先进的技术装备和独特的设计,具有丰富的专用设备装配调试技术和经验。
