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双面对准紫外光刻机
型号：URE-2000S/A型
该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。
采用专利技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀照明；
1、采用三爪和球气浮同时找平，无论大片、小片调平精度均高；
2、具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；
3、自动分离对准间隙和消除曝光间隙，间隙分离可达500μm；
4、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，
并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和
方便存储；
5、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好；
7、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明（曝光面能量15mW/cm ，温度小于30度）；
8、对准完成，自动消除曝光间隙，无横向漂移且可通过监视器观察；
9、快门可以单独开启，也可以数字设定自动倒计时曝光（设定范围0.1s-9999.9s）；
10、采用350W进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度；
11、汞灯具有高亮度和“待机”两种方式，即曝光时采用高亮度照明，而不曝光
时采用低亮度的“待机”，从而延长了汞灯寿命。
12、设备外形美观精制，性能非常可靠；
13、上下片、版十分方便，自动化程度很高，操作简便。
二．技术参数
1、曝光面积：153mm×153mm
2、曝光波长：365nm
3、分辨力：0.8µm（胶厚1.5um的正胶）
4、对准精度：单面±0.8µm，双面±2.5µm
5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸、7寸
6、承片台：2寸、3寸、4寸、6寸
7、样片尺寸直径Ф30mm--Ф150mm(可适应非标准片或碎片) 厚度0.1mm-6mm(可扩展为15mm)
8、照明均匀性：±3%（Ф100mm范围）±5%（Ф150mm范围）
9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞灯功率：1000W（直流 德国欧司朗长寿命型）
11、曝光方式：定时（到计时方式0.1s—9999.9s任意设定）
12、最大胶厚：500um
13、光源平行性：6度
14、双目双视场显微镜：物镜三队：4X、10X、20X，目镜三对：10X、16X、20X
应用领域
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等
