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Current Position: Home » Equipment » Processing Equipment » Lithography » UV光刻机 »NXQ紫外光刻机NXQ4006
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    NXQ紫外光刻机NXQ4006

    Applied to the semiconductor industry：

    Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

    Product brand

    NXQ

    Specification model：

    套

    Delivery period：

    3个月Day

    In stock：

    1

    Place of origin：

    United States

    Quantity：

    cut back increase

    price：

    Negotiable
    inquiry experts experts
    Inquiry(No registered)
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    Brand：NXQ

    model：套

    Own series：Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

     恩科优（NXQ）4000系列半⾃自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点。自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。该系统以其卓越的性能，经济的价格，深受全球用户喜爱，截止2011年底，超过4000台NXQ光刻机遍布全世界的科研实验室、研发中心和工业生产线。
    系列型号（根据曝光基片的尺寸范围选择合适的型号）
    NXQ4006 半自动型（可处理最大到6英寸的基片）
    NXQ4008 半自动型（可处理最大到8英寸的基片）
    适用领域（包括但不限于下述领域的光刻工艺）
    微电子
    LED/HB LED
    3D IC/晶圆制造工艺
    2.5D Interposer
    MEMS
    BioMEMS
    微流控芯片
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    光电子
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