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    JKG-2A型 光刻机 上海学泽光学机械有限公司

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

    Product brand

    劳动牌

    In stock:

    100

    Place of origin:

    China-上海市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    consumer hotline:00864001027270

    Brand:劳动牌

    model:

    Own series:Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

    JKG-2A型 光刻机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城

     
     

    本机是制造中、大规模集成电路,传感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻设备。

    主要技术参数

    1、适用的掩模尺寸:
      (1)100*100*2-3mm  (2)75*75*2-3mm  (3)63*63*2-3(选购)
    2、适用的硅片尺寸: ф35-ф75mm
    3、光刻图形线条: 3~4чm,最细可达2чm
    4、掩模与硅片之间的相对位移范围: X/Y±2.5mm,(旋转)±6°
    5、承片台(硅片)绕主轴旋转: 粗调360度,可微调
    6、承片工作台综合移动范围: X,Y合成ф75mm
    7、承片台的球座平面至掩模板面升降: 0-7.5mm
    8、曝光灯源:GCQ200W超高压汞灯,曝光波长: 300-436nm
    9、曝光系统能量不低于: 7mw
    10、曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内: ±5%
    11、显微镜的照明波长: ≈545nm
    12、曝光时间控制范围: 0.1秒~99分
    13、双目显微镜的放大倍数:
      (1)目镜共二种:10X,16X  (2)平视场物镜共三种:6X,9X,15X  (3)合成放大倍率:60X-240X
    14、真空接触压力: ≥0.7kgf
    15、装箱尺寸: 1000*850*980mm(2只)
    16、装箱重量: 200kg

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