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URE-2000S/A型紫外光刻机 成都晶普科技有限公司
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100
Place of origin:
China-四川省
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产品名称:URE-2000S/A型紫外光刻机
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主要技术指标:
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曝光面积:150mm×150mm |
分辨力:1μm(胶厚1.5 μm的正胶) |
对准精度:±3μm(双面) |
最大胶厚:500μm(SU8胶) |
掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch |
样片尺寸:直径Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm) |
照明均匀性:±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm) |
汞灯功率:1000W(直流) |
掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6° |
技术特点:
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该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术,单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计,掩模—样片对准过程直观,套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式,操作方便。 |
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