Website Homepage
Shopping cart
User center
Product Category
Prompt message
inquiry experts experts
Service Hotline
4001027270
原子层沉积 ALD P-200 Pro 北京正通远恒科技有限公司 PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率，并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。原子层沉积PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有最好的性能，完全满足您的需求。
原子层沉积 ALD P-200 Pro 北京正通远恒科技有限公司技术参数
衬底尺寸和类型
衬底尺寸和类型
50 – 200 mm /单片
最大可沉积直径150 mm基片，竖直放置，10-25片/批次（根据工艺）
特殊选项：最大200 mm，竖直放置，5-15片每批（根据工艺）
156 mm x 156 mm 太阳能硅片
工艺温度
最大可沉积直径150 mm基片，竖直放置，10-25片/批次（根据工艺）
特殊选项：最大200 mm，竖直放置，5-15片每批（根据工艺）
156 mm x 156 mm 太阳能硅片
工艺温度
50 - 500 °C, 可选更高温度
基片传送选件
基片传送选件
气动升降（手动装载）
预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
半自动的机械装载
集群系统的批量装载（Cassette-to-cassette ）
前驱体
预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
半自动的机械装载
集群系统的批量装载（Cassette-to-cassette ）
前驱体
液态、固态、气态、臭氧源、等离子体
4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
重量
4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
重量
790 kg
尺寸 (W x H x D)
尺寸 (W x H x D)
160 cm x 80 cm x 240 cm
选件
选件
集群工具，PICOFLOW™ 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，N2发生器，尾气处理
器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载），与工厂软件连接服务。
验收标准
器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载），与工厂软件连接服务。
验收标准
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用特别验收标准如：
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用特别验收标准如：
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能
