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    原子层沉积 ALD P-300 Advanced

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

    Product brand

    Picosun

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:Picosun

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

     PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每刻(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有最好的性能,完全满足您的需求。

    技术参数
    衬底尺寸和类型

    300mm晶圆10片/批次(标准间距)
    200mm晶圆25片/批次(标准间距)
    156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背)
    高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背)
    3D复杂表面衬底
    粉末与颗粒
    Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
    多孔,通孔,与高深宽比(HAR)样品
    工艺温度
    50 – 500 °C
    基片传送选件
    气动升降(手动装载)
    线性装载器
    工业机器人装载
    前驱体
    液态、固态、气态、臭氧源
    源瓶容量传感器,并提供清洗和装源服务
    4根独立源管线,最多加载6个前驱体源
    重量
    400 + 300 kg
    尺寸 (W x H x D)
    149 cm x 191 cm x 111 cm
    选件
    集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设
    计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。
    验收标准
    标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
     

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