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    SVT Associates' NorthStar™ 原子层沉积(ALD)系统 高德

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

    Product brand

    高德

    In stock:

    100

    Place of origin:

    National

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:高德

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

    SVT Associates' NorthStar™ 原子层沉积(ALD)系统

     

    工作原理:

    一个ALD 周期 由2个不同的表面化学反应组成, 反应可自我终结,所以只有一个原子层的薄膜会在衬地的表面上生长。在一层接一层的生长过程中,薄膜可以高度保型和厚度均匀。而薄膜的厚度可以在纳米范围内由反应周期的数量来控制。

     

     

    特点:

    • 最多8 个前趋体源
    • 热壁沉积腔体
    • 能够与其他沉积系统和计量工具连接
    • 自动化系统 /软件 - RoboALD™

     

     

    应用范围:

    • 高k电介质
    • 纳米涂层
    • 表面修饰层
    • 器件封装
    • MEMS
    • 光子晶体

     

     

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