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    原子层沉积 ALD P-300 Pro 北京正通远恒科技有限公司

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-原子层沉积ALD

     PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每刻(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有最好的性能,完全满足您的需求。

    技术参数
    衬底尺寸和类型

    最大300mm晶圆/单片
    200mm晶圆25片/批次(标准间距)
    150mm晶圆50片/批次(标准间距)
    100mm晶圆75片/批次(标准间距)
    高深宽比(HAR)样品
    工艺温度

    50 –500 °C
    基片传送选件

    预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )
    半自动的机械装载
    集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette )
    批量装载,带翻转传送系统(flipping mechanism)
    真空批量装载
    氮气柜装载
    前驱体

    液态、固态、气态、臭氧源、等离子体
    源瓶容量传感器,并提供清洗和装源服务
    6根独立源管线,最多加载12个前驱体源
    重量

    820 kg
    尺寸 (W x H x D)

    160 cm x 80 cm x 240 cm
    选件

    集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理
    器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。
    验收标准

    标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
    其他工艺可具体协商:其他工艺、应用特别验收标准如:
    --不均匀性
    --颗粒物含量
    --重金属污染
    --电学性能 

    advisory

    If you have any questions before purchasing, please contact us.

    Question:
     

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    4001027270

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